1．国内外现状、水平和发展趋势
超声清洗技术的机理研究及设备开发与超声清洗工艺研究及应用在我国已有近50年的历史,几乎与国外同步进行的。80年代前我国超声清洗研制单位无论从研制队伍和生产有一定规模的单位为数不多,80年代后特别90年代开始随着改革开放的深入和国民经济的飞速发展以及科技的不断进步，尤其先进制造技术的需求，超声清洗技术的研究与超声清洗设备的研制得到了迅速发展，研制队伍不断壮大，研制单位不断增多。然而目前市场较为传统的超声波清洗在对半导体器件、硅晶圆等精密元件的清洗中，由于频率多在20kHz-100kHz之间，此频率范围内的超声空化效应较大，对精密元器件表面一些微结构会造成一定程度的损坏，同时也难清除1微米以下的杂质颗粒，无法满足需求。
太平淡了，要写出目前不解决清洗的问题，晶圆就不能发展，我们国家集成电路就不能发展，只能通过超声波清洗来解决这一问题。

2．项目开发的目的、意义
    鉴于以上缺点，昆山超声特设计一款频率高达1.7MHz的超声波清洗机。
（1）超精密清洗：换能器发出波长为兆赫级的高能声波，溶液分子在声波的推动下作加速运动，以较强的声压梯度、声流作用产生的高速流体力学层连续冲击精密元件表面，大大降低元件表面与液体之间的边界层厚度，使杂质粒子受到溶液兆赫频的震荡作用从器件表面脱落，能够清洗掉元器件表面微米、亚微米级的杂质颗粒，兆声波清洗机能实现超精密清洗过程。
（2）不伤清洗件：兆赫级声波极低的空化效应，不同于产生驻波的超声波清洗，而是利用高频声波能量使溶液以加速的流体形式，连续冲击清洗对象，此机理方式不会损伤清洗对象，能够有效解决精密元件清洗后造成的损伤、腐蚀等现象。

3．本项目达到的技术水平及市场前景
 采用侧槽式兆声清洗，换能器采用高频超声波换能器，置于水槽四侧，清洗时硅晶圆等精密元件放置在水槽中，方便用户使用。系统具有过温、过流、防反接保护等，保护性强，灵敏度高。控制电路由工业串口触摸屏与控制电路板通讯，控制后端电路。

本兆声波清洗机使用便捷，实现硅晶圆等精密元件的高效无伤清洗，具有非常广泛的市场前景。