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产品中心
我们只生产更高品质的超声波清洗设备
1、基本参数:
2、行业:半导体材料 3、用途:用于半导体材料的清洗。 4、设备:该清洗机主要由超声波发生器、换能器、清洗槽、热风干燥系统、加热系统、机架、门板和控制系统等组成。 5、清洗流程:手动上料→超声清洗→热风干燥→手动下料 6、特点:用超声波快速清洗半导体材料表面污物,再快速风切干燥,使材料结构不被破坏。
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型号:13500SE.DZ
用途:分散、混匀、提取
特点:不破坏晶型及晶格
型号:KQ-8100TGS.DZ
用途:去油
特点:多种清洗工艺结合不破坏特种钢材料结构